OXIC – プロセス
セラミック層は、陽極酸化処理と同様に、リムを電解質溶液に浸漬させながら、リムとコンテナをそれぞれ電極としてその間に電圧をかける方法で処理されます。陽極酸化処理とOXiCの決定的な違いは、電解液とリムの間で何百万ものプラズマ放電が発生し、成長中の酸化層に高温と高圧がかかることです。これにより、成長中の酸化層が溶けて流れ、再び凝固します。この処理の間、(不規則な)アモルファス構造の酸化物が(規則的な)結晶構造に変化します。OXiCが非常に硬く、耐摩耗性が高いのはこのためです。